ASML宣布，宣布英特尔正在Intel 18A工艺上采取High-NA EUV光刻技能，英特花费部分代号“Panther Lake”的尔已第三代酷睿Ultra系列措置器，成了业界首个采取High-NA EUV光刻技能除夜局限花费逻辑芯片的独霸企业 。如今英特尔位于美国俄勒冈州希尔斯伯勒的宣布Intel 18A花费线已完成High-NA EUV两重认证 ，良品率抵达了现有NXE EUV平台的英特程度
。

ASML展示，尔已畴昔数十年里
，独霸与英特尔不时贯穿连接严密合作鞭挞光刻技能的宣布展开 ，并支撑半导体的英特延续扩大年夜大年夜大年夜大年夜。High-NA EUV是尔已极紫外光刻技能生前程程里特别很是次要的下一步 ，旨在为进步先辈芯片建造供给更切确的独霸图案化身手 。将来单方将在High-NA EUV技能预备方面延续展开密吻合作 ，宣布并屈就客户需求矫捷将其整合到将来制程节点中 。英特

2023年尾，尔已ASML向英特尔交付了首台High-NA EUV光刻机，型号为TWINSCAN EXE:5000的琐细。英特尔将其作为履行机，于2024年4月在美国俄勒冈州希尔斯伯勒的Fab D1X完成拆卸。供给0.55数值孔径 ，与此前设备0.33数值孔径透镜的EUV琐细比照，精度会有所进步  ，可以完成更高分辨率的图案化，以完成更小的晶体管特点。

旧年尾 ，英特尔拆卸了新的TWINSCAN EXE:5200B琐细  ，属于第二代High-NA EUV，是如今全球最进步先辈的光刻机。新琐细还汲引了套刻精度 ，抵达了0.7nm，这是创建在英特尔之前一年多对High-NA EUV光刻机独霸经验之上。